Radioelektronikos terminų žodynas. – Vilnius : BĮ UAB „Litimo“. Kazimieras Gaivenis, Gytis Juška, Vidas Kalesinskas. 2000.
Chemische Gasphasenabscheidung — Unter dem Begriff chemische Gasphasenabscheidung (englisch chemical vapour deposition, CVD) versteht man eine Gruppe von Beschichtungsverfahren, welche unter anderem bei der Herstellung von mikroelektronischen Bauelementen und… … Deutsch Wikipedia
Physikalische Gasphasenabscheidung — Der Begriff physikalische Gasphasenabscheidung (englisch physical vapour deposition, kurz PVD) bezeichnet eine Gruppe von vakuumbasierten Beschichtungsverfahren bzw. Dünnschichttechnologien. Anders als bei Verfahren der chemischen… … Deutsch Wikipedia
Plasmaunterstützte chemische Gasphasenabscheidung — Die plasmaunterstützte chemische Gasphasenabscheidung (englisch plasma enhanced chemical vapour deposition, PECVD; auch engl. plasma assisted chemical vapour deposition, PACVD, genannt) ist eine Sonderform der chemischen Gasphasenabscheidung … Deutsch Wikipedia
Metallorganische chemische Gasphasenabscheidung — Die metallorganische chemische Gasphasenabscheidung (englisch metal organic chemical vapour deposition oder metallo organic chemical vapour deposition, MOCVD) ist ein Beschichtungsverfahren aus der Gruppe der chemischen Gasphasenabscheidung… … Deutsch Wikipedia
Metallorganische Gasphasenabscheidung — Die metallorganische Gasphasenepitaxie (engl. metal organic chemical vapor phase epitaxy, MOVPE) ist eine Epitaxiemethode zum Wachstum von kristallinen Schichten. Weitere Synonyme für diese Beschichtungstechnologie sind organo metallic vapor… … Deutsch Wikipedia
fotochemische Gasphasenabscheidung — fotocheminiu gariniu būdu nusodintas oksidas statusas T sritis radioelektronika atitikmenys: angl. photochemical vapor deposition oxide; photox vok. fotochemische Gasphasenabscheidung, f rus. оксид, сформированный методом фотохимического… … Radioelektronikos terminų žodynas
physikalische Gasphasenabscheidung — fizikinis garinis nusodinimas statusas T sritis radioelektronika atitikmenys: angl. physical vapor deposition vok. physikalische Gasphasenabscheidung, f rus. физическое осаждение из паровой фазы, n pranc. déposition physique en phase vapeur, f;… … Radioelektronikos terminų žodynas
plasmachemische Gasphasenabscheidung — plazmocheminis garinis nusodinimas statusas T sritis radioelektronika atitikmenys: angl. plasma chemical vapor deposition vok. plasmachemische Gasphasenabscheidung, f rus. плазмохимическое осаждение из паровой фазы, n pranc. dépôt plasmachimique… … Radioelektronikos terminų žodynas
Chemical Vapour Deposition — Unter dem Begriff chemische Gasphasenabscheidung (englisch chemical vapor deposition, CVD) versteht man eine Gruppe von Beschichtungsverfahren, welche unter anderem bei der Herstellung von mikroelektronischen Bauelementen eingesetzt werden.… … Deutsch Wikipedia
Chemical vapor deposition — Unter dem Begriff chemische Gasphasenabscheidung (englisch chemical vapor deposition, CVD) versteht man eine Gruppe von Beschichtungsverfahren, welche unter anderem bei der Herstellung von mikroelektronischen Bauelementen eingesetzt werden.… … Deutsch Wikipedia
